SJT 31120-1994 KSM-MJB3型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
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日期: |
2024-7-28 |
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中华人民共和国电子行业标准,KSM MJB3型掩模对准曝光机,完好要求和检查评定方法,SJ/T 31120-94,1主题内容与适用范围,本标准规定了 KSM—MJB3型掩模对准曝光机的完好要求和检査、评定方法;,本标滙适用于德国产KSM--MJB3型曝光机;也适用于德国产KSM、MA56和美国产,CA8OO型掩模对准曝光机,2引用标准,GB 11481-89掩模对准曝光机通用技术条件,3术语,3.1曝光分辨率,在集成电路和其它半导体器件制造中,曝光分辨率是指在一定环境条件和工艺条件下,基,片曝光、显形后,获得的细小图形的清晰度,通常用曝光后所获得的最细图形线宽表示,3-2对准精度,在基片与掩模对准完成后,对准标记中心线之间允许的最大误差称为对准精度,以掩模板,和基片上标记中心线的最终相对位置的偏差量作为判据,4完好要求,4.1 主要技术指标,4.1.1 有效曝光面积内光强均匀性达到或优于士 6%,4.1-2恒光强装置的光强波动度值不大于士5%,4.1-3对准精度优于曝光分辨率,或优于土 O-5fzm,4.1-4曝光分辨率优于l-5〃m,或满足使用要求,4.1 -5扫描部件移动时,垂直方向跳动量不大于10円n,4.2 操作系统,4-2-1各操作手柄、开关、按钮、启动灵活、定位可靠,4-2-2曝光系统动作灵活可靠,与显微镜升降,快门启闭,动作协调,准确到位,4. 2- 3微动台X、Y、Z移动范转角达到使用要求,移动和转动时全程手感平滑,4-2.4承片台载片牢靠,吸片、送片没有误动作,满足工艺要求,中华人民共和国电子工业部1994- 04-15批准 1994-06-01实施,ww. bzfxw. com下载,SJ/T 31120-94,4.3润滑系统,4.3- 1机械泵润滑良好,油路通畅,油面在规定刻线,4-3-2曝光系统运动导轨润滑良好。.,4-4气压系统,4.4- 1有压缩空气控制的机构,减压阀等调整灵活可靠,压カ范围满足工作要求,4-4-2真空吸片、真空吸版、真空复印时,负压应满足工作要求,4.5电 气系统,4- 5-1汞灯电路启动迅速,电磁阀控制的快门无漏光和卡死现象,4- 5-2高压泵灯输出功率稳定,电流或光强在一定范围可调,4-5-3各电器部分无漏电现象,满足工作要求,4-6光学系统,4-6-1显微镜的分辨率优于对准标记要求的分辨率;双目分离视场显微镜的两物及两目镜的,中心距在一定范围内能连续可调,4- 6- 2有效曝光光束直径应大于等于基片尺寸加X、Y方向调节范围,4.7附件:,4. 7-1附件齐全,保管良好,无锈蚀与损伤,4-8附属装置:,4-8-1机械泵,空压机,保管良好,无锈蚀与损伤,4-9安全保护,4.9 -1整机接地良好,装置齐全,有效,4.10 维护保养,4-10-1汞灯照度降低后及时更换新灯以满足照度要求,4.10-2定期清洁设备,更换机械泵油,4.10. 3环境条件保持在温度.20.25C ,湿度35.70%,百级或千级净化,环境振动幅度小于,4ftm,4-10. 4其它按SJ/T. 31002—94《设备维护保养通则》执行,5检査、评定方法,5.1 检査方法,5-1.1光强均匀性的检査方法:用精度不低于O-33mW/cm2的紫外照度计检查有效曝光面,积内的五点光强(中心一点,周围均布4点),其光强均匀性按下式计算光强均匀性V :,V = 士(£m.x - Emin)/(Em" + £min) X 100% .. (1),式中 瓦皿——最大光强值,mW/cm?;,Em?---- 最小光强值,m W/cn?,如此测三次,取平均值,2,sj/t 31120-94,5.1.2 恒光强波动度的检査方法,用同5, 1.1照度计检査4h内的光强变化值,按下式计算光,强波动度D;,D = (Emai - £min)/£ X 100% (2),式中;£max、£min―最大和最小光强度,mW/cm?;,£-----4小时内的平均光强,mW/cm?,5.1.3 对准精度的检查方法:将涂好胶的基片用有特定标记的版精确对准,然后曝光、显影、,腐蚀,再次涂胶完成精确对准,曝光、显影,用线宽测量仪测出特定标志X、Y向偏离值,如此6,次,取其均值,5.1-4 曝光分辨率的检査方法;将基片涂胶,在规定的工艺条件下,曝光显影,观测刻线宽度.,按下式计算线宽变化率B;,8=3。一 4)/ん X 100%(3),式中:ん---掩模版的标称线宽屮m;,b、ー基本线宽极值,其值小于-10%的最细线宽为曝光分辨率,5.1.5 垂直跳动误差的检查方法:将带支架的千分表固定在扫描部件上,扫描部件移动时,测,其Z方向跳动量,5.1.6 对各系统完好要求,在设备现场采用主观法检査,5.2 评定方法,5. 2-1主要项目有:4. 1. 1,4. 1. 3,4. 1. 4;其余为次要项目,5.2- 2主要项目有一项不符合要求,为不完好设备;次要项目有两项不符合要求,亦为不完好,设备,5.2-3完好设备的维护保养,应达到优等设备标准,附加说明:,本标准由电子部工业部经济运行及体制改革司提出,本标准由机电部第13所组织起草,本标准主要起草人:薛中堂。',3……
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